ООО «Крокус Наноэлектроника» выбрало компанию ASML в качестве поставщика литографического оборудования

Крокус Наноэлектроника, логотип

ООО «Крокус Наноэлектроника» (КНЭ) сообщило сегодня о том, что выбрало компанию ASML, одного из ведущих мировых производителей фотолитографических систем для полупроводниковой промышленности, в качестве поставщика литографического оборудования на базе ArF лазера для своей фабрики по производству MRAM в Москве. Тем самым КНЭ открывает эру производства на пластинах 300 мм в России.

Борис Омаров, генеральный Директор КНЭ, отметил сегодня: «Поскольку наше производство MRAM является первой 300 мм полупроводниковой фабрикой в России, мы прошли через процесс интенсивного изучения и тщательного отбора, в результате которого приняли решение, что ASML будет оптимальным партнером для КНЭ. У ASML долгая история поставок самого надежного литографического оборудования в отрасли. Мы ожидаем плодотворных и взаимовыгодных отношений с ASML в ходе реализации последующих фаз нашего проекта».

Марсэл Кэмп, Директор Европейского Отделения ASML сообщил: «Я рад, что ASML был выбран в качестве поставщика литографического оборудования на базе ArF лазера для первого 300 мм полупроводникового производства в России. ASML  считает растущий Российский рынок важным для себя и гордится тем, что будет поддерживать производство MRAM КНЭ».

Поделиться
Rss-канал