Новости Группы РОСНАНО

Последние события и самая актуальная информация о деятельности РОСНАНО

Развитие партнерских отношений между Beneq Oy и Мордовским государственным университетом им. Н. П. Огарева вступает в новую фазу с открытием совместной лаборатории ALD

05 сентября 2013

4 сентября в Мордовском государственном университете им. Н. П. Огарева состоялось официальное открытие лаборатории по изучению тонкопленочных технологий (100 нм и менее), полученных методом атомно-слоевого осаждения (atomic layer deposition, ALD) на оборудовании TFS200 компании Beneq. Открытие лаборатории — это очередной шаг в реализации стратегии формирования национальной наноиндустрии как следствие развития технологий синтеза наноструктурированных материалов на основе процесса ALD.

В рамках официального открытия лаборатории между Мордовским государственным университетом и Beneq Oy было подписано соглашение о долгосрочном сотрудничестве в области развития тонкопленочных технологий. Обладая высокими научными компетенциями и сложившейся научной школой, Мордовский государственный университет переходит от области теоретических изысканий к практической реализации исследований и разработки инновационных продуктов на базе технологии ALD благодаря тесному взаимодействию с финской компанией Beneq Oy, производителем тонкопленочного оборудования, и компанией ЗАО «ЭлТех СПб», специализирующейся на создании наукоемких производств.

Актуальность технологии ALD обусловлена практической возможностью управления свойствами материалов на атомарном уровне при нанесении слоев практически любого элементного состава, структуры, толщины для достижения требуемых характеристик с одновременным прецизионным контролем этих параметров. Спектр практических применений нанотехнологии ALD предполагает применение тонких пленок в фотовольтаике, в оптических покрытиях, в процессе упрочнения стекла, в биосовместимых покрытиях, при защите от потускнения и коррозии, а также применение разнообразных барьерных пленок для электроники.

Деятельность лаборатории будет нацелена на решение широкого круга задач: проведение прикладных исследований ALD, демонстрация возможностей ALD, интеграция ALD в промышленность, реализация примеров мирового опыта в ALD, изготовление и анализ образцов, услуги по нанесению покрытий и пилотное производство, а также обучение технологиям и работе на оборудовании ALD.

Компании «ЭлТех СПб» и Beneq Oy обеспечат лабораторию необходимым оборудованием и поддержкой.

Справка

Beneq основан в 2005 году. На заводе в Эспоо (Финляндия), который Beneq приобрел в 2012 году, была впервые применена технология атомно-слоевого осаждения (ALD, Atomic Layer Deposition) в промышленном производстве в 1984 году. Сегодня это крупнейший в мире завод по производству ALD-нанесений. АО «РОСНАНО» выступало инвестором проекта с 2012 года.

Выручка Beneq corporation в 2017 году составила €21,3 млн. Крупнейшим рынком поставок в 2017 году являлась Европа с долей 40%, за ней следуют Азия и Америка с долей 34% и 24% соответственно. В конце августа 2018 года в Beneq работало 146 человек.

В Санкт-Петербурге действует совместная лаборатория Beneq Oy и Санкт-Петербургского государственного электротехнического университета «ЛЭТИ», где проводятся исследования и испытания промышленных применений метода ALD, а также осуществляется поддержка внедрения тонкоплёночных технологий на российских предприятиях.

Подробнее о компании — www.beneq.com

* * *

ALD — перспективная нанотехнология, использующаяся в промышленности, медицине и других областях. Она позволяет создавать покрытия, способные значительно увеличить срок службы литий-ионных аккумуляторов, используемых в мобильных устройствах, увеличить прочность стекла. Технология широко применяется в производстве дисплеев, стекол космических летательных аппаратов, а также в судостроении. Антикоррозийные свойства ALD-покрытий позволяют защитить поверхности транзисторов от электрических и химических воздействий окружающей среды.